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內分泌物在膠束中的增溶作用——材料和方法
來源:Kibron 瀏覽 879 次 發(fā)布時間:2021-09-22
材料
陽離子表面活性劑 HTAB(純度 > 98.0%)購自 Tokyo Kasei(日本)。 NP(技術級)、hp-β-CD(平均分子量約為 1,540 g mol-1)和羅丹明 B(純度約為 95%)購自 Sigma-Aldrich。 β-E2(>99% 純度)購自 Alfa Aesar。 碘化鈉(NaI,分析級)和十水硫酸鈉(純度 > 98%)購自 Nacalai Tesque(日本)。 購買來自 Kishida Kagaku(日本)的磷酸二氫鈉(> 99.0% 純度)和來自 Kanto Kagaku(日本)的磷酸氫二鈉(> 99.5% 純度)以制備磷酸鹽緩沖溶液(20 mM,pH 7.0)。 所有樣品溶液均通過 Millipore 過濾器(Milli-Q Laboratory,Nihon Millipore,Japan,電阻率 18.2 MΩ cm)用純凈水制備。
(HTA)2SO4 的制備
在循環(huán)伏安法中,我們使用二十六烷基三甲基硫酸銨 (HTA)2SO4 代替 HTAB,因為溴化物 (Br-) 會干擾伏安圖。 HTAB 溶于乙醇和 1.2 當量。 加入硫酸銀以沉淀出溴化銀晶體形式的 Br?。 通過過濾從溶液中除去溴化銀。 然后,蒸發(fā)(HTA) 2 SO 4 的乙醇溶液并將干燥的鹽溶解在甲醇中。 溶解的鹽用丙酮重結晶兩次。 過濾最終的晶體并在真空干燥器中干燥。
方法
界面張力 (γ) 測量
使用了兩種類型的界面張力計。 一種是懸滴式界面張力計(PD-X 型,配有 FAMAS 1.7.0 版軟件,日本協(xié)和界面科學公司)。 一滴樣品懸浮在 18 號不銹鋼針上。 液滴周圍的水套通過循環(huán)水浴(模型 RTE-5,Neslab,美國)恒溫在 25.0±0.1°C。 在液滴形成后超過 5 分鐘記錄所有數據。 還使用了 Du Nong 型界面張力計(Model AquaPi & EZ-Pi,Kibron,Finland)。 將該張力計放置在濕度保持較高且水溫為24°C的箱體中。 在讀數變得恒定后記錄所有數據。 這些儀器用純水校準。 所有測量均在平衡 1 小時后進行。
熒光各向異性測量 所有熒光各向異性測量均在 BEACON 2000 光譜儀 (Pan Vera) 上在 25.0±0.1 °C 下進行。 該設備配備了一個 100-W 鹵素燈作為激發(fā)源和一個裝有循環(huán)水浴以控制溫度的恒溫電池室。 羅丹明 B (RB) 被用作熒光探針 [10]。 通過分別使用 570 和 630 nm 的激發(fā)和發(fā)射波長測量熒光各向異性。 發(fā)射狹縫和激發(fā)狹縫的尺寸均為 10 nm。 RB 的濃度保持在 0.1 μM。 RB 有望在膠束的表面區(qū)域增溶并報告有關那里微觀結構變化的信息。 分子探針熒光發(fā)射的去極化程度是其在激發(fā)壽命期間的旋轉擴散的量度。 穩(wěn)態(tài)各向異性 (r) 通過 Perrin 方程與探針周圍的粘度有關:
其中 r0 是在沒有旋轉自由的情況下獲得的發(fā)射各向異性的極限值,C 是熒光團激發(fā)態(tài)的平均壽命,T 是絕對溫度,k 是玻爾茲曼常數,V 是探針的有效分子體積, η 是探頭周圍的粘度。 從 Perrin 方程可以看出,較大的各向異性對應于固定溫度下更加剛性的環(huán)境。 獲得的極化值 (P) 通過以下等式轉換為 r 值:
膠束介質中探針RB的各向異性值取10次讀數的平均值。
DLS
對于動態(tài)光散射 (DLS) 測量,使用了高性能粒度儀(HPPS 型,馬爾文,英國)。 激發(fā)源是 633 nm 的 He-Ne 激光。 散射角選擇為 173°,以減少多次散射。 每次測量都使用光程為 1 厘米的一次性塑料比色皿。 溫度保持在25.00±0.01℃。 所有數據均在試管設置后 10 分鐘記錄,并作為十次測量的積云。 膠束值的流體動力學半徑(RH)取三個讀數的平均值。
循環(huán)伏安法測量
在膠束溶液中研究了 I2/I? 的電極反應。 鉑圓盤電極(BAS,φ=1.6 mm)作為工作電極,銀-氯化銀電極作為參比電極,鉑絲作為對電極。 每次掃描均在工作電極用鋁粉(0.3 μm)拋光并用純水沖洗后進行。 所有樣品溶液都含有 0.49 M 硫酸鈉和 0.01 M 硫酸作為支持電解質。 使用微分恒電位儀(型號 HECS-310B,Huso,日本)。 碘化鈉的濃度恒定在 0.5 mM。 每次掃描在 10 mV s-1 下進行。 記錄含有 hp-β-CD 的碘化鈉溶液在不存在和存在 10 分鐘氬氣通氣情況下的循環(huán)伏安圖 (CV)。 未觀察到溶解氧對 CV 的影響(圖中未顯示)。 因此,所有 CV 均在沒有氬氣曝氣預處理的情況下進行。